“知识视界”产学研-视频播放

对不起，您不在IP段范围内，无法观看

249 播放

播放有问题？请戳这里

芯片制造工艺：掺杂扩散

时长：2 分钟

类别：微电子技术

简介：在半导体制造中的掺杂过程中，扩散是一个关键步骤，用于将掺杂剂原子引入半导体材料中，以改变其电学特性。

相关视频:

半导体晶圆缺陷检测系统

Microtronic的EAGLEview是一款用于半导体晶圆的自动化宏观检测和缺陷管理系统。
如何制造微芯片

解释微芯片是如何制造的，以及制造过程中需要的条件。
简述湿法刻蚀工艺

通过使用各向同性和各向异性湿法刻蚀工艺,可以高精度地创建由硅湿法蚀刻产生的微观结构。本片解释了各向同性和各向异性湿法刻蚀的原理。
GigaStep湿法工作台

GigaStep湿法工作台是由AP&S开发的一种化学湿法工艺设备，用于处理晶圆、MEMS、光电子器件、光掩膜和玻璃基板等材料。
只读存储器技术概述

讨论了存储器层次结构以及填充其中的各种存储器技术。介绍了只读存储器以及NOR和NAND型闪存的区别。
浅谈数字集成电路

在数字集成电路中，信号是仅具有两个值的数字信号。它们包含逻辑门等电路。根据其中包含的逻辑门数量，数字集成电路可以进一步分类为SSI、MSI、LSI和VLSI。
微处理器概述

微处理器作为计算机的核心组件，处理速度不断提升。本片介绍了微处理器在计算机中的重要性以及其发展历程。
了解光刻技术

在半导体制造中，光刻技术用于定义微小结构的图案，而刻蚀工艺则用于去除材料以形成这些结构，二者相辅相成，共同构成了半导体器件制造过程中至关重要的步骤。

观看记录：