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光刻技术概述

时长：26 分钟

类别：微电子技术

简介：光刻技术是半导体制造中常用的一种工艺，用于在半导体器件上定义图案和结构。在纳米技术研究中，光刻技术也是一种重要的工具，用于制备微米甚至纳米级别的结构。

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