“知识视界”产学研-视频播放

对不起，您不在IP段范围内，无法观看

280 播放

播放有问题？请戳这里

EUV光刻技术面临的挑战

时长：15 分钟

类别：微电子技术

简介：描述了ASML在实现EUV光刻技术时所面临的挑战，其中包括如何解决EUV光刻掩膜的零缺陷率问题。

相关视频:

GigaStep湿法工作台

GigaStep湿法工作台是由AP&S开发的一种化学湿法工艺设备，用于处理晶圆、MEMS、光电子器件、光掩膜和玻璃基板等材料。
何谓集成电路

集成电路是一种微型电子器件或部件。本片将讨论什么是集成电路，其工作原理是什么。
模块化单晶片技术

AP&S公司专注于高质量的半导体湿法工艺。该片展示了该公司的单晶片产品和湿法工艺设备，包括独特的金属Lift-off工艺，创新的模块化单晶片系列等。
微处理器概述

微处理器作为计算机的核心组件，处理速度不断提升。本片介绍了微处理器在计算机中的重要性以及其发展历程。
半导体湿法工艺

在AP&S演示中心，半导体制造商可以获得对标准和创新半导体材料工艺的修改支持；比较不同半导体湿法工艺设备的湿法工艺性能和参数。
集成电路的制造过程

了解集成电路是如何制造的，以及为什么集成电路是所有电子设备的基础。
半导体离子注入工艺

离子注入是一种添加工艺，利用高能量带电离子束注入的形式，将掺杂物原子强行掺入半导体中。理解如何使用离子束在半导体内部深处注入掺杂剂。
集成电路的发明

集成电路是由杰克基尔比所发明,他所发明的集成电路应用到各个领域,方便了生产以及应用。

观看记录：