导航切换
我的
导航切换
专业
搜索
节目
画面
研报
注册/登录
个性定制
|
内容总结
章节片段
字幕全文
思维导图
深度学习
追问
拖动时间轴点击获取起止时间码,截取片段时长
不能超过
5分钟
×
点击获取
开始时间:
点击获取
结束时间:
保存片段标题:
保存
|
分享
QQ好友
QQ空间
页面地址:
复制
复制链接给好友,分享精彩视频
扫一扫手机观看&分享
对不起,您不在IP段范围内,无法观看
250 播放
收藏
片段保存及分享
播放有问题?
请戳这里
带隙和半导体载流子
时长:5 分钟
类别:微电子技术
简介:半导体、绝缘体和导体之间的区别在于需要多少能量才能将电子从其原子核中拉开!本片深入探讨了这一点,还谈到了何谓空穴的概念。
标签:
教学
微电子
半导体
相关视频:
极紫外光刻技术概述
极紫外光刻是一种先进的半导体制造技术,使用波长约为13.5纳米的极紫外光在硅晶圆上创建极小和精确的图案。极紫外光刻技术可提高电子设备的性能。
低压化学气相沉积
在半导体制造中,低压化学气相沉积是一种常用的沉积技术,用于在半导体器件上沉积薄膜材料,其中SiO2是一种常见的绝缘材料,用于制造晶体管和其他半导体器件的绝缘层。
湿法工作台批处理解决方案
AP&S的批处理解决方案可用于清洁、蚀刻、无电解镀、光刻胶去除、脱模以及干燥湿法工艺,适用于各种晶圆尺寸、厚度和材料的基板。
刻蚀工艺概述
刻蚀是半导体制造三大步骤之一。在范德堡纳米尺度科学与工程研究所(VINSE)的洁净室,拍摄者介绍了刻蚀工艺以及可用于该过程的工具。
集成电路的发明
集成电路是由杰克基尔比所发明,他所发明的集成电路应用到各个领域,方便了生产以及应用。
半导体浸没式光刻技术
193纳米浸没式光刻技术是一种在早期2000年代出现的光刻技术,本片将介绍193纳米浸没式光刻技术的重要性。
光刻掩模版的历史
介绍在光刻工艺中所需用到的必备材料以及设备,例如掩模版。本片主要讲述的是掩模版的历史及其组成。
只读存储器的种类
ROM是一种存储器类型,即只读存储器,其内容在计算机启动时不能被改变。本片介绍了不同类型的只读存储器,包括PROM、EPROM和EEPROM。
观看记录: