“知识视界”产学研-视频播放

对不起，您不在IP段范围内，无法观看

223 播放

播放有问题？请戳这里

本征半导体和外延半导体

时长：4 分钟

类别：微电子技术

简介：本征半导体和外延半导体之间的主要区别在于是否有掺杂杂质。本征半导体是未掺杂的纯净半导体材料，而外延半导体是通过掺杂改变电学性质的半导体材料。

相关视频:

了解常见的逻辑门

介绍了常见的逻辑门：包括"与"门，"或"门，"非"门，"异或"门等等。
半导体的能带结构

半导体材料一种特殊的固体材料,固体能带理论的发展半导体的研究起到了推动作用,该片将介绍半导体的能带结构。
光刻技术概述

光刻技术是半导体制造中常用的一种工艺，用于在半导体器件上定义图案和结构。在纳米技术研究中，光刻技术也是一种重要的工具，用于制备微米甚至纳米级别的结构。
EUV光刻技术与自由电子激光器

将EUV光刻技术和自由电子激光器结合，意味着利用自由电子激光器产生极高能量的极紫外光，用于进行更精细、更高分辨率的图案化。
何谓运算放大器

运算放大器通常称为Op-Amp，是一种广泛用于模拟电路中放大信号的电子元件，它在许多电子电路中起着至关重要的作用。
半导体概述

解释了本征半导体，能带理论以及半导体N型或P型的掺杂。
刻蚀工艺概述

刻蚀是半导体制造三大步骤之一。在范德堡纳米尺度科学与工程研究所（VINSE）的洁净室，拍摄者介绍了刻蚀工艺以及可用于该过程的工具。
模块化单晶片技术

AP&S公司专注于高质量的半导体湿法工艺。该片展示了该公司的单晶片产品和湿法工艺设备，包括独特的金属Lift-off工艺，创新的模块化单晶片系列等。

观看记录：