导航切换
我的
导航切换
专业
搜索
节目
画面
研报
注册/登录
个性定制
|
内容总结
章节片段
字幕全文
思维导图
深度学习
追问
拖动时间轴点击获取起止时间码,截取片段时长
不能超过
5分钟
×
点击获取
开始时间:
点击获取
结束时间:
保存片段标题:
保存
|
分享
QQ好友
QQ空间
页面地址:
复制
复制链接给好友,分享精彩视频
扫一扫手机观看&分享
对不起,您不在IP段范围内,无法观看
183 播放
收藏
片段保存及分享
播放有问题?
请戳这里
如何制造微芯片
时长:14 分钟
类别:微电子技术
简介:解释微芯片是如何制造的,以及制造过程中需要的条件。
标签:
教学
微电子
芯片制造工艺
相关视频:
半导体平衡载流子浓度1
通过费米函数,我们可以推导出平衡载流子浓度与费米能级之间的关系,从而帮助我们理解半导体材料中载流子的行为。
CMOS逻辑的基础知识
从简单的反相器和传输门开始,介绍了有关CMOS逻辑的基础知识,并讨论动态和静态功耗。最后,我们将讨论闩锁效应的影响。
集成电路概述
集成电路可以根据其功能被分类为模拟、数字或混合型。本片解释了集成电路的基本概念和构成。
半导体基础知识
解释了半导体的基础知识,何谓本征、外延半导体以及半导体中空穴和电子的概念。
低压化学气相沉积
在半导体制造中,低压化学气相沉积是一种常用的沉积技术,用于在半导体器件上沉积薄膜材料,其中SiO2是一种常见的绝缘材料,用于制造晶体管和其他半导体器件的绝缘层。
如何制造微芯片
解释微芯片是如何制造的,以及制造过程中需要的条件。
光刻掩模版的历史
介绍在光刻工艺中所需用到的必备材料以及设备,例如掩模版。本片主要讲述的是掩模版的历史及其组成。
极紫外光刻技术概述
极紫外光刻是一种先进的半导体制造技术,使用波长约为13.5纳米的极紫外光在硅晶圆上创建极小和精确的图案。极紫外光刻技术可提高电子设备的性能。
观看记录: