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极紫外光刻技术概述

时长：7 分钟

类别：微电子技术

简介：极紫外光刻是一种先进的半导体制造技术，使用波长约为13.5纳米的极紫外光在硅晶圆上创建极小和精确的图案。极紫外光刻技术可提高电子设备的性能。

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