“知识视界”产学研-视频播放

对不起，您不在IP段范围内，无法观看

215 播放

播放有问题？请戳这里

湿法刻蚀工艺应用

时长：2 分钟

类别：微电子技术

简介：概述了AP&S公司的湿法工艺应用范围，包括半导体、MEMS和微结构化行业，同时介绍了该司研发的手动、半自动和全自动湿法工艺工具。

相关视频:

极紫外光刻技术概述

极紫外光刻是一种先进的半导体制造技术，使用波长约为13.5纳米的极紫外光在硅晶圆上创建极小和精确的图案。极紫外光刻技术可提高电子设备的性能。
晶体管与逻辑门

CMOS逻辑门由互补的NMOS和PMOS晶体管对组成。通过合理组合PMOS和NMOS晶体管，可以实现各种逻辑门并构建复杂的数字电路。
斯坦福干法刻蚀技术

詹姆斯·麦克维蒂博士介绍了斯坦福纳米制造设施（SNF）的干法刻蚀技术。
低压化学气相沉积

在半导体制造中，低压化学气相沉积是一种常用的沉积技术，用于在半导体器件上沉积薄膜材料，其中SiO2是一种常见的绝缘材料，用于制造晶体管和其他半导体器件的绝缘层。
GigaStep湿法工作台

GigaStep湿法工作台是由AP&S开发的一种化学湿法工艺设备，用于处理晶圆、MEMS、光电子器件、光掩膜和玻璃基板等材料。
何谓扩散电容

扩散电容是指二极管在正向偏置时所表现出来的电容特性。扩散电容是二极管的重要参数之一，影响着二极管的高频性能。
金属与半导体欧姆接触机理

了解金属/半导体接触的特性,寻求形成金属/宽带隙半导体欧姆接触的方法。
半导体生产过程

半导体生产过程涉及多个步骤来制造半导体器件。该片概述了半导体生产过程中涉及的关键步骤。

观看记录：