导航切换
我的
导航切换
专业
搜索
节目
画面
研报
注册/登录
个性定制
拖动时间轴点击获取起止时间码,截取片段时长
不能超过
5分钟
×
点击获取
开始时间:
点击获取
结束时间:
保存片段标题:
保存
|
分享
QQ好友
QQ空间
页面地址:
复制
复制链接给好友,分享精彩视频
扫一扫手机观看&分享
对不起,您不在IP段范围内,无法观看
175 播放
收藏
片段保存及分享
播放有问题?
请戳这里
晶圆批处理工艺
时长:3 分钟
类别:微电子技术
简介:批处理工艺用于生产半导体器件和微机电系统(MEMS)的主要特点是同时在前后两面处理多块晶圆。NexAStep批处理工艺被设计用于简化、加速晶圆处理工作流程。
标签:
教学
微电子
芯片制造工艺
相关视频:
二极管的特性与参数
阐述二极管中的二阶和三阶近似原理以及不同的二极管参数。
极紫外光刻系统概述
英特尔使用极紫外(EUV)光刻系统,利用极端较短的波长将电路图案投影到硅晶圆上。
概述半导体基础知识
解释了关于半导体的一些基础概念,包括空穴、掺杂和P-N结。理解这些概念有助于理解各种半导体器件的工作原理。
DRAM存储器的原理和操作
深入讨论动态随机存取存储器(DRAM)的工作原理和操作,以及它在计算机中的重要性。
CPU寄存器概述
CPU寄存器通常包括通用寄存器、特殊目的寄存器和程序计数器等。CPU寄存器是CPU内部的一种重要组成部分,起着存储、传递和处理数据的关键作用。
集成电路的制造过程
了解集成电路是如何制造的,以及为什么集成电路是所有电子设备的基础。
芯片制造工艺:掺杂扩散
在半导体制造中的掺杂过程中,扩散是一个关键步骤,用于将掺杂剂原子引入半导体材料中,以改变其电学特性。
EUV光刻技术的工作原理
多年来,半导体的尺寸急剧缩小,为了找到使芯片变得更小更强大的方法,需要新技术的加持——EUV光刻机。本片将着重介绍EUV光刻技术。
观看记录: