“知识视界”产学研-视频播放

对不起，您不在IP段范围内，无法观看

210 播放

播放有问题？请戳这里

集成电路的发展历程

时长：11 分钟

类别：微电子技术

简介：集成电路的发展经历了多个阶段，从最初的简单功能到如今的复杂系统集成，随本片一同浏览集成电路的发展历程。

相关视频:

半导体：扩散电流

扩散电流的概念涉及到半导体器件中的载流子在电场作用下由高浓度区向低浓度区扩散而形成的电流。扩散电流是半导体器件中一种重要的电流成分，与漂移电流相互作用，共同影响器件的电特性。
半导体材料概述

半导体材料是一类具有半导体性能，可用来制作半导体器件和集成电路的电子材料。该片介绍了可作为半导体材料的元素、化合物和合金。
集成电路的基本特性

集成电路外表像电子元件，但实际上是电子电路。该片介绍了集成电路的基本特性。
了解非挥发性存储器

非挥发性存储器是一种可以在断电情况下保持存储数据的存储设备。与易挥发性存储器（如RAM）不同，非挥发性存储器可以长期保存数据而无需持续电源供应。
只读存储器技术概述

讨论了存储器层次结构以及填充其中的各种存储器技术。介绍了只读存储器以及NOR和NAND型闪存的区别。
CMOS的制造过程

CMOS是互补金属氧化物半导体的简称，该片解释了CMOS的制造过程。
光刻技术概述

光刻技术是半导体制造中常用的一种工艺，用于在半导体器件上定义图案和结构。在纳米技术研究中，光刻技术也是一种重要的工具，用于制备微米甚至纳米级别的结构。
斯坦福干法刻蚀技术

詹姆斯·麦克维蒂博士介绍了斯坦福纳米制造设施（SNF）的干法刻蚀技术。

观看记录：

标签:

相关视频:

半导体：扩散电流

半导体材料概述

集成电路的基本特性

了解非挥发性存储器

只读存储器技术概述

CMOS的制造过程

光刻技术概述

斯坦福干法刻蚀技术