导航切换
我的
导航切换
专业
搜索
节目
画面
研报
注册/登录
个性定制
|
内容总结
章节片段
字幕全文
思维导图
深度学习
追问
拖动时间轴点击获取起止时间码,截取片段时长
不能超过
5分钟
×
点击获取
开始时间:
点击获取
结束时间:
保存片段标题:
保存
|
分享
QQ好友
QQ空间
页面地址:
复制
复制链接给好友,分享精彩视频
扫一扫手机观看&分享
对不起,您不在IP段范围内,无法观看
202 播放
收藏
片段保存及分享
播放有问题?
请戳这里
300毫米硅晶圆制造过程
时长:5 分钟
类别:微电子技术
简介:300毫米硅晶圆是半导体工业中的关键过程,是制造集成电路和其他电子器件的硅基基板。本片介绍了300毫米硅晶圆的制造过程。
标签:
教学
微电子
芯片制造工艺
相关视频:
半导体离子注入工艺
离子注入是一种添加工艺,利用高能量带电离子束注入的形式,将掺杂物原子强行掺入半导体中。理解如何使用离子束在半导体内部深处注入掺杂剂。
揭秘芯片生产全过程
AEMtecGmbH企业可实现从晶圆制造到封装的全过程,为先进电子微系统提供高端芯片。
微电子技术的发展趋势
在芬兰技术研究中心的微纳技术研究院,科学家们致力于开发下一代微电子和量子技术,打造集半导体、集成光子学、石墨烯和超导技术为一体的试生产线,推动用于人工智能新处理器的发展。
半导体载流子传输3
扩散电流是半导体器件中另一种重要的载流子传输机制,描述了由载流子浓度梯度引起的载流子移动行为。
离子注入工艺概述
离子注入在现代硅片制造过程中有广泛应用,主要用于掺杂半导体。在这个过程中,离子束被加速并注入到材料的表面,从而改变材料的化学组成、晶体结构或表面硬度等特性。
极紫外光的产生原理
阿斯麦公司使用(极紫外)EUV光在晶圆上创建极小的图案。这种技术需要一个强大的核心,那就是EUV光。那么EUV光是如何产生的呢?
300毫米硅晶圆制造过程
300毫米硅晶圆是半导体工业中的关键过程,是制造集成电路和其他电子器件的硅基基板。本片介绍了300毫米硅晶圆的制造过程。
CMOS芯片制造工艺
CMOS是互补金属氧化物半导体的缩写。该片介绍了CMOS制造工艺的各个步骤。
观看记录: