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刻蚀工艺概述

时长：12 分钟

类别：微电子技术

简介：刻蚀是半导体制造三大步骤之一。在范德堡纳米尺度科学与工程研究所（VINSE）的洁净室，拍摄者介绍了刻蚀工艺以及可用于该过程的工具。

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